キヤノン株式会社は、独自の「ナノインプリント」(NIL)技術を採用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を発売した。半導体製造でもっとも重要となるのが、回路パターンをウェハに転写する露光装置だが、ウェハ上に塗...

半導体向け2インチダイヤモンドウェハの量産技術、新原理で実現著者:和根﨑友梨子 アダマンド並木精密宝石は9月9日、新原理のダイヤモンド結晶成長方法を用いることで、半導体デバイスで求められる品質を実現した2イ...

産総研など、SiCウェハの鏡面研磨を従来比で12倍高速化する技術を開発著者:波留久泉 産業技術総合研究所(産総研)、ミズホ、不二越機械工業の3者は9月1日、次世代パワー半導体材料であるSiCウェハの平坦化を高速で実...

金沢大、ダイヤモンドウェハ向け機械的ダメージフリー平坦化技術を開発金沢大学は4月20日、ダイヤモンドに対する研磨の代替技術となる「機械的ダメージフリー平坦化技術」を開発したことを発表した。...

ポイント シリコン太陽電池は、より一層の高品質化と低コスト化が望まれている。1枚の断面スライスから4枚のウェハを作製できるほど大口径のシリコン単結晶を作製した。高効率太陽電池の作製コストの3割程度の削減が...

(光州=聯合ニュース)イ・ウソン記者=先月11日、享年81才で亡くなった日本軍慰安婦被害者キム・ウェハン、ハルモニを賛える追悼碑が京畿道広州ナヌムの家にたてられた。ナヌムの家は28日午前、広州市のナヌムの家の前...

旧日本軍の慰安婦だったキム・ウェハンさんが11日夜、京畿道広州市内の病院で亡くなった。80歳だった。慰安婦被害者が共同生活する同市内の施設「ナヌムの家」で暮らしていたキムさんは、健康状態が悪化してこの日午...